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报告简介： 在制备新型生物芯片器件时，通常会涉及到光刻工艺。而在诸多光刻技术中，无掩膜光刻技术因其独特的优势和特点，成为当前最为流行高效的一种。与传统掩膜版技术相比，无掩膜曝光技术具有高分辨、高对准精度、更加简易操作等诸多优势，能够轻松实现微米、亚微米级精度的光刻、套刻。配合各类标准微加工工艺，能够
【TechWeb】9月30日，在目前芯片制造行业，要想制造7nm以下的芯片就必须依靠EUV光刻技术。而EUV技术从诞生之日起就控制在美国人的手里。这就造成了一个局面，像紫光展锐这样使用美国技术的芯片企业随时会成为“下一个华为”。市场调研机构counterpoint近期发布的统计数据显示，紫光展锐20
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