技术线上论坛|11月24日《半导体器件痕量有机污染分析--亚微米分辨红外拉曼同步测量系统》- 工业快报

技术线上论坛|11月24日《半导体器件痕量有机污染分析--亚微米分辨红外拉曼同步测量系统》

产业资讯 / 来源：工业快报 / 作者：工业快报 / 发布时间：2021-11-22

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报告简介：

半导体器件，尤其是高密度的集成电路，最常见的污染莫过于微粒和有机化学品污染。该类污染物常落于器件的关键部位并毁坏器件的功能成为致命缺陷。目前微粒的量度尺寸已经降到亚微米级，这种亚微米级的小尺寸污染检测与鉴别尚未有高效准确的表征手段。有机化学品污染以多种形式存在，如人的皮肤油脂，净化室空气，机械油，清洗溶剂等。如何在凹凸不平的集成电路微区里发现并鉴定有机化学品污染，提升器件良品率，已成为众多科研工作者的研究课题。

传统的傅里叶变换红外光谱FTIR/QCL一直是半导体器件污染的常用表征手段，但该技术在关键问题的表征上存在一些局限性，例如空间分辨率(10-20 μm) 较差和对<10 μm的样品测试灵敏度较低、坚硬的金属界面可能会损坏ATR探针、以及污染出现在凹凸/狭隙内，使得ATR接触式测量难以实现。所以，如何在亚微米分辨率级别和非接触条件下，实现芯片/半导体器件的有机缺陷和污染物的识别和表征是非常重要以及创新的一种手段。

PSC (Photothermal Spectroscopy Corp. )公司研发的亚微米分辨红外拉曼同步测量系统mIRage将独特的光学光热红外(O-PTIR)技术与同步拉曼光谱技术相结合，直接解决了上述挑战。该系统具有500 nm的亚微米红外空间分辨率、非接触无损测量、免样品制备、高质量光谱(测试可兼容粒子形状/尺寸和表面粗糙度)、商业数据库检索匹配等优点，已广泛应用于半导体/芯片器件的痕量有机污染分析。

在本次讲座中，我们将以半导体污染物的分析检测为例，深入探讨传统FTIR和mIRageTM O-PTIR显微光谱技术的区别和特点，并通过一系列非常有挑战性的样品测试结果和分析来展示红外+拉曼同步显微光谱技术的独特功能与优势, 希望对您的研究工作有所帮助。

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