半导体行业:离子注入设备行业概览

   应用领域及分类

  离子注入设备按照应用领域可划分为集成电路领域、光伏电池领域和面板领域;按照能量高低与束流大小,可进奇步划分为高中低离子注入设备和高中小束流离子注入设备。目前掺杂工艺有高温热扩散法和离子注入法,离子注入机在掺杂工艺中应用占主导地位,并具备掺杂均匀性好,纯度好,低温灵活、可控精度等优点

  离子注入设备最大应用领域——集成电路

  离子注入机是四大前道晶圆制造设备之一。离子注入机与薄膜沉积设备、光刻设备、刻蚀设备同列为四大集成电路制造关键制程设备。在半导体产业中,离子注入是通过对半导体材料表面进行某种元素的离子注入掺杂,从而改变其特性的掺杂工艺制程。

  集成电路离子注入机市场规模快速增长,竞争格局呈现国际巨头寡头垄断。目前,中国仅有凯世通和中科信可生产离子注入机,凯世通是中国唯一掌握集成电路离子注入机核心技术企业。'

  离子注入设备应用领域——光伏电池、AMOLED面板/面:

  在中国光伏设备更新需求和中国政策支持助力驱动下,加速了中国离子注入设备改造N-PERT电池产线。从长远来看,光伏行业补贴退坡,降低光伏电池成本,提高发电效率为应对关键。

  目前AMOLED领域设备全球市场由曰本日新公司所垄断。凯世通拥有核/己、零部件与核心技术,有望快速突破OLED面板离子注入技术瓶颈,快速实现产品落地量产。

文章内容来自网络,如有侵权,联系删除、联系电话:023-85238885

参与评论

请回复有价值的信息,无意义的评论将很快被删除,账号将被禁止发言。

评论区